也是在30nm之前,基本上无人往这个方向思考的原因。
其次,成本。
加工一块芯片所需要的加工工序数目增加了。原来一次加工的步骤,现在要两次,甚至四次才可以。
这在商用芯片的制造上,是很致命的。
例如,如果只采用一次加工,良品率为7成。这完全是个可以接受的数字。但是当一次加工,改成四次加工的时候,整个工艺的良品率就会下降到2成。
多重图案法的核心,是把一张图片分解成多张。这里还会存在分图片互相校准的问题。所以,在实际的生产过程中,采用这种工艺以后,其良品率会极大降低。
用刚才的例子数据来计算,良品率,会从7成,下降到不到一成!
英特尔之所以在10nm节点,耗费了接近5年的时间,跟他们的多重四图案曝光(SAQP)良率较低,有关系。
对于一个芯片厂来说,良品率就是他们的饭碗。
如果在14nm的时候,芯片成本是300美元。升级芯片生产工艺的目的,自然是因为进程越高,占用的晶圆面积越小。采用新工艺后,芯片的生产成本,也自然降低。同样功能芯片,它的成本在10nm时代,应该降为150美元才对。
但这种工艺,增加了工序的数目,实际上已经增加了芯片的加工成本。再加上良品率的问题,采用新方法生产出来的芯片,弄不好成本还高于300美元了。
在这种情况下,为什么要量产10nm?
在intel占据垄断地位的时候,表现就更为突出。这也是PC的CPU连续多年,速度根本没有怎么提升的根本原因。
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但这个理由,对全彩无效,对光电无效。
全彩,乃至光电,并不是一间芯片公司,这个10nm工艺解决的是有无问题,生死问题。
这就与花为一样。花为是卖芯片的吗?
不是!他是卖5G系统!
有了这300美元的芯片,几万美元的系统就能卖出去!没有,死路一条!
这里的进程升级,节省的不是那150美元的成本。它的价值是几万美元!
全彩也是同样道理。有了这十几美元的芯片,上千美元的显示器就能卖出去!这款芯片,代表的不仅仅是十几美元的加工成本。
在这种情况下,良品率不要说3成,就是1成,甚至只有百分之一,也必须要上。
当然,良品率还是需要提高的。
良品率的提高,就是个磨耐心,磨时间的过程,没有什么了不起的。
LED时代,大家经历过,LCD,现在正在经历。所有人都有了信心。
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“还真有好东西啊!这个项目一做成,你可就牛B大了啊!”
看着老乡在黑板上,一顿比比划划,两个人都听明白了。
这个项目如果做成。它的影响力实在是太大了。
TFT-LCD,以前中国没有,你做出来了,填补了国内空白,别人会夸一下。但他绝对意识不到这里的难度真有这么大。
但晶圆一样吗?
中国在一微米这个地方卡了多久?
1微米的技术攻关,国家在531计划时期(1986年),就提出来了。而等到908工程的投产,已经是1997年的事情。
前后两个国家级计划,整整走了11年!就是到现在,1992年,也已经走6年多了。
而且更重要的是,这个技术的极限,不仅仅是用2微米设备来生产1微米芯片。理论上来讲,它甚至可以实现微米!
连909计划都不需要了!
三个国家级计划!
继续提高可不可以,例如微米?
呵呵!
凭此一个技术,中国就可以在半导体工艺上,实现对世界先进水平的反超!
更重要的是,这个技术需要什么开发成本吗?
所有的设备,都是现有设备啊!
这个项目只要做成,不仅仅是成永兴,包括严亮和叶静,都会名声大噪。一次搞出三个工程院院士,绝对没有问题。
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